第83章 现在就拆给你看!(1 / 2)

f光刻作为芯片制造流程中最关键的环节,其基本原理其实很简单,就是用光,来完成对硅片的雕刻。

光刻中的硅片,就像是挂在墙上的投影布,而光刻机则是投影仪,

如果投影布表面不平整,出现起伏,那投影的画面自然就会扭曲变形。

在光刻中,硅片的表面瑕疵,则会导致投影上去的电路设计路变形,从而导致良率降低,甚至整张晶圆报废。

所以想要得到一张能用来制造芯片的硅片,则需要把切割后的单晶硅片进行抛光打磨,直至它的表面平整度低于15n&nbp;r。

这相当于在电影院挂上一块大幕布,它的表面起伏不能超过一根头发丝大小,无限接近于完美的镜面。

因此,这对硅片制造抛光工艺要求,自然就显得极其重要了。

从圆珠笔头上的小钢珠,到芯片的原材料硅片,再到光刻机上的镜片,最后甚至是科幻三体中表面完美无暇的水滴……

其实考验一个文明工业水平高度的,就是看你能把一个物品造得有多精细。

而造精细的东西,自然就需要空气干净的洁净室,不然空气中全是灰尘细菌,再怎么打磨造不出合格的硅片。

“其实这些年我们通过仿制岛国的设备,已经可以达到26n&nbp;r的平整度了,但无论我们再怎么检查,哪怕每一个零件都已经达标了,但依然没办法继续突破……”

严辉穿一边穿着防护服,一边向康驰介绍着他们的研究进度。

“抛到26n&nbp;r用的是什么抛光液?”

“以i2为基础,加入0-70t的双氧水,最后用h调节ph到85。”

康驰点了点头“先看看再说吧。”

两人穿好防护服后,很快就来到了抛光实验室,然后由严辉主持,向康驰演示了一次抛光实验。

在传统的硅片抛光打磨中,通常会先用机械抛光机,对硅片进行初步打磨,再清洗,最后进行化学机械抛光,也称为精磨。

精磨是一种利用抛光液的化学腐蚀功能,配合机械转盘的机械打磨,两者互相配合来达到硅片的工艺标准。

实验的结果是31n&nbp;r,比他们能做的极限还差不少。

康驰沉思了片刻,然后说道“换成30ta23基液,加65t高锰酸钾作为化学抛光液,用5thn3调成80的ph值再试一遍。”

严辉点了点头,带着研究员们调配好抛光液,然后重新进行了一次实验。

“平整度59n&nbp;r。”

看到这个结果,原本还有点小期待的严辉,不由露出一抹失望的神色。

但康驰却依然不为所动,又报出了一组抛光液配比,让他们重新进行第三次实验。

“平整度59n&nbp;r。”

59?

还是59?!

是巧合吗?

虽然59显然是远远不达标的,但严辉却似乎意识到了什么,有些惊讶地转头看向康驰。

“你……计算好的?”

“算是吧。”

康驰点了点头。

这下严辉彻底呆住了,

要知道,化学机械抛光的技术难点,除了抛光设备的硬件要达标之外,还要根据设备性能、硅片参数,来调配化学抛光液,以达到化学抛光和机械抛光的完美配合。

要想调试得好,首先就需要对设备了如指掌,其次这是丰富的抛光液调配经验。

但康驰仅仅只是通过一次实验演示,就能看似轻松地报出两组不同成分的抛光液,并在后续的实验中,达到同一数值的平整度……

这多少有点匪夷所思了吧?

哪怕是已经参与过无数次测试的严辉,在没有经过计算机模拟的情况下,也绝对做不到如此精准的控制,

估计误差至少得有个03n&nbp;r。

他有些难以置信地问道“你到底是怎么做到的?”